美国称ASML顶级芯片设备或已进入中国 ASML予以否认

据Bloomberg报道，美国商务部长Howard Lutnick近期在一系列会议中告知ASML高管，其担忧这家荷兰芯片制造商的极紫外光刻（EUV）设备可能已流入中国。EUV系统是目前全球唯一能用于制造最先进半导体图案的工具，自特朗普政府时期起，美国出口管制便禁止ASML向中国出售EUV设备。美国政府高级官员称有证据表明ASML向中国运送了EUV相关组件和运输设备，但未向Bloomberg或ASML出示该证据。ASML则表示中国境内从未存在过EUV设备，美国商务部也未回应是否有中国境内存在实际EUV系统的证据。ASML CEO Christophe Fouquet六周前曾指出，公司对所有已发货设备进行追踪，或由受监控客户使用，或已拆解并返还公司。ASML多年前建立了内部防火墙，接触EUV技术、文档和培训的员工与中国团队严格隔离。他还称EUV设备的研发耗时约20年，投入巨额资金，其中80%依赖过往数十年技术积累，仅EUV光源这一核心问题就花费20年解决，强调中国无法逆向工程其从未拥有的设备。从商业逻辑看，ASML向中国销售的是十年前的深紫外（DUV）设备，预计2026年约20%收入来自对华合规销售，其无意通过非法EUV销售危及现有业务及市场地位。此外，美国商务部去年向xLight公司投入1.5亿美元，该公司致力于开发下一代光源技术，被视为ASML EUV垄断的长期挑战。xLight CEO曾表示希望成为ASML的合作伙伴而非竞争对手，但Fouquet对此并不认同。目前尚无公开信息表明Lutnick对ASML的审查与xLight有关。同时，美国国会一项两党法案正推进，拟全面禁止ASML向中国出口DUV设备，该法案已在4月通过关键委员会，特朗普政府尚未表态。